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坑是不可能坑的,因为张尧自己也用了。反正爱怎么就怎么着吧,就算出点岔子,秃也是三个人一起秃。
不过张尧喊姜复回来自然不可能单纯为了这件事。
张尧看着姜复问道:“5nm光刻机的进度,你那边怎么样了?”
姜复摇了摇头道:“有点问题,有些环节想要绕过其他国家的专利有点难。”
王浩好奇道:“真有这么难吗?连你出马都有问题?”
“不是一般的难!”
说起光刻机华夏人都不陌生,大多数人了解到这种机器还是因为前几年的华威断供事件。
光刻机解释起来不复杂,它主要用于将芯片设计图案转移到硅晶圆上。
工作原理类似于底片曝光洗印机,将掩膜上的图案通过光刻过程转移到硅晶圆上,形成芯片。
这听上去并不是很难,你甚至可以说它是一件高级作图机器。
但如果把它换成纳米级别的呢?
这个对精度的要求是不是就恐怖了!
光刻机包含大量的机械部件和电子元件,需确保每一个部件的稳定性和精确度。组装过程中,机器内部温度的控制需达到千分之五度的精度,这就要求有高效的冷却方法和精准的测温传感器。
以SMEE的光刻机为例,其包含13个分系统,3万个机械件,200多个传感器,组装过程对精度和稳定性要求极高。
光刻机对精密性的要求极高,运动控制精度和位置测量精度需达到纳米级别。
例如,光刻机中的两个工件台,一个载底片,一个载胶片,需始终同步运动,且误差控制在2纳米以下。
越高级的光刻机在这一步要求越高,这要求它具备极高的运动控制精度和稳定性,同时要控制温湿度和空气压力,以保证对焦的准确性。
极紫外光刻机需要极高的能量光源,而EUV光刻机的能源转换效率只有0.02%左右。
EUV光刻机使用的光源和透镜都必须能够承受高能量的照射,且光刻机中的光学镜片需要特殊的材料来制造,以实现高精度的成像。
另外还有光刻胶和掩模技术,热管理,光学镜片等等难题。
光刻机的组成和技术难点涵盖了机械、电子、光学,材料等多个领域,对技术的要求极高。
它几乎是整个人类文明发展以来所有高精尖技术的结合体,是半导体工业
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